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ULVAC?愛發(fā)科真空泵|真空計(jì)|氣體分析儀|美薩國(guó)內(nèi)總銷售


創(chuàng)立于1952年日本,株式會(huì)社ULVAC為以**真空技術(shù)為基礎(chǔ),以先端技術(shù)應(yīng)用及精細(xì)加工工藝為追求的研究開發(fā)型綜合企業(yè)集團(tuán),向國(guó)內(nèi)外客戶提供真空泵、真空配套產(chǎn)品、

濺射靶材等產(chǎn)品

愛發(fā)科集團(tuán)是一家以在各領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用的真空技術(shù)為基礎(chǔ),以開創(chuàng)精細(xì)加工工藝為追求的研究開發(fā)型綜合企業(yè)集團(tuán)。長(zhǎng)期以來,作為追求真空極限(Ultimate in Vacuum)的真空技術(shù)先驅(qū),以電子技術(shù)以及信息通信技術(shù)為引導(dǎo),以設(shè)備生產(chǎn)為中心,在能源、環(huán)保、運(yùn)輸、醫(yī)藥、食品、化工、生物工程等廣闊的領(lǐng)域,提供先進(jìn)的真空技術(shù)產(chǎn)品。
FPD&PV制造設(shè)備
愛發(fā)科有各種各樣的FPD以及PV相關(guān)制造技術(shù),不僅開發(fā)和制造設(shè)備,還通過研究新材料來提供全球解決方案。半導(dǎo)體制造設(shè)備
下一代半導(dǎo)體,具有更高的集成化和高性能化,同時(shí)要求更低的成本。愛發(fā)科堅(jiān)持開發(fā)這樣的半導(dǎo)體超微細(xì)化技術(shù),源源不斷的推出支持社會(huì)進(jìn)步的新技術(shù)和產(chǎn)品。
電子制造設(shè)備
下一代高性能電子產(chǎn)品,將具有更高的集成化,同時(shí)要求更低的制造成本。愛發(fā)科獨(dú)具匠心的投入研發(fā)和制造,源源不斷的推出支持社會(huì)進(jìn)步的電子新技術(shù)和產(chǎn)品。
產(chǎn)業(yè)機(jī)器制造設(shè)備
愛發(fā)科面向一般產(chǎn)業(yè)制造設(shè)備的歷史悠久,從五十年代就開始了設(shè)備的開發(fā)與制造。利用迄今為止所積累的技術(shù)優(yōu)勢(shì)驅(qū)動(dòng)下,為汽車、醫(yī)療、食品等產(chǎn)業(yè)和領(lǐng)域提供綜合性的技術(shù)服務(wù)。
真空配套零部件
作為真空綜合廠家,愛發(fā)科追求先進(jìn)的真空技術(shù),在真空配套產(chǎn)品的開發(fā)上投入巨大。從真空泵、真空計(jì)、各類分
析設(shè)備到成膜設(shè)備用電源,真空閥門等,擁有的產(chǎn)線齊全的產(chǎn)品可供選擇。
材料應(yīng)用

愛發(fā)科為各種產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域,源源不斷的提供磁控濺射靶材等高規(guī)格電子材料。在高性能材料領(lǐng)域,提供鈦、鉭、鋯、鈮等材料的全套制造以及精密加工技術(shù)服務(wù)。

以"真空技術(shù)"為產(chǎn)業(yè)和科學(xué)的發(fā)展做出貢獻(xiàn),開創(chuàng)美好未來。
在愛發(fā)科集團(tuán)的核心:株式會(huì)社愛發(fā)科中,規(guī)格品事業(yè)部開發(fā)·制造·銷售與真空技術(shù)相關(guān)的多種多樣的真空機(jī)器,除了用于"創(chuàng)造真空"的真空泵·閥門·配管部件和用于"看見真空"的真空計(jì)·工藝氣體監(jiān)控器·檢漏儀等測(cè)量?jī)x器之外,還有在成膜工藝中用于"制膜"的成膜用電源,用于"觀察膜"的橢偏儀,用于"搬送晶圓"的真空搬送機(jī)械手等。
我們的產(chǎn)品不僅構(gòu)成真空設(shè)備,還成為支撐汽車、空調(diào)等家電、材料工程、醫(yī)療醫(yī)藥、生物技術(shù)等各種產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵技術(shù)。
事業(yè)內(nèi)容
從真空泵、計(jì)測(cè)儀器、成膜用電源、真空搬送機(jī)械手、各種分析儀到真空閥、法蘭、端子等各種構(gòu)成部件,開發(fā)、設(shè)計(jì)和制造多種多樣的真空機(jī)器。


(1)應(yīng)用數(shù)據(jù) 蒸發(fā)設(shè)備殘留Gas data

gas01_1.jpg

大氣壓成分N2:78% O2:21% Ar:0.9%

?通常的高真空狀態(tài)下H2O和H2會(huì)比較多。

?可以根據(jù)N2(28) / O2(32) 的離子強(qiáng)度及其比例判斷泄漏是否存在。

?可以通過 M/e=39,41,43,55,57(CH)判斷油成分的污染。

(2)應(yīng)用數(shù)據(jù) PVD Process Gas Data(Semi)

gas02_1.jpg

(3)應(yīng)用數(shù)據(jù) PVD Process Gas Data (FPD)

Ar Gas導(dǎo)入時(shí)(2)(Ar 400 sccm導(dǎo)入時(shí),O2 2 → 4 → 6 → 8 → 10sccm)

gas03_1.jpg

(4)應(yīng)用數(shù)據(jù)  PVD Process Gas Data (semi)

gas04_1.jpg

(5)測(cè)量示例  真空干燥爐?Process Data

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